发明名称 成像方法、成像装置和记录物
摘要 提供了一种成像方法,其包括:预处理液施加步骤,其用于将预处理液施加在记录介质上,所述记录介质包括衬底和在衬底的至少一个表面上的涂层,其中所述预处理液被施加在记录层的具有涂层的表面上;干燥步骤,其用于干燥在其上已经施加所述预处理液的所述记录介质;和成像步骤,其用于通过喷墨方法排出水性油墨在干燥后在所述记录介质上形成图像,其中所述预处理液包括水溶性阳离子聚合物、有机酸的铵盐和水,并且其中所述水性油墨包括水和包含着色剂的带负电荷的彩色颗粒。
申请公布号 CN104470726A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201380036901.X 申请日期 2013.07.05
申请人 株式会社理光 发明人 青合翔介;前川勉;南场通彦;妹尾晋哉;后藤宽;后藤明彦
分类号 B41M5/00(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I;C09D11/30(2014.01)I 主分类号 B41M5/00(2006.01)I
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人 赵蓉民;张全信
主权项 一种成像方法,其包括:将预处理液施加在记录介质上,所述记录介质包括衬底和布置在所述衬底的至少一个表面上的涂层,其中所述预处理液被施加在所述记录介质的具有所述涂层的表面上;干燥在其上已经施加所述预处理液的所述记录介质;和通过喷墨方法排出水性油墨在干燥后在所述记录介质上形成图像,其中所述预处理液包括水溶性阳离子聚合物、有机酸的铵盐和水,并且其中所述水性油墨包括水和包含着色剂的带负电荷的彩色颗粒。
地址 日本东京