用于光刻设备的预对准装置及方法

摘要

本发明公开一种用于光刻设备的预对准装置，包括：照明光源，用于提供一准直光束；分光光学单元，用于将该光束形成两束准直光；光栅单元，该光栅单元经该两束准直光照射后形成两组莫尔条纹；光学探测矩阵，用于探测该莫尔条纹；该光栅单元包括两组圆形光栅，每组圆形光栅均包括第一圆形光栅及第二圆形光栅。本发明同时公开一种用于光刻设备的预对准方法。

主权项

一种用于光刻设备的预对准装置，包括：照明光源，用于提供一准直光束；分光光学单元，用于将所述光束形成两束准直光；光栅单元，包括第一组圆形光栅和第二组圆形光栅，分别经所述两束准直光照射后形成第一组莫尔条纹和第二组莫尔条纹；光学探测矩阵，用于探测所述第一组莫尔条纹和第二组莫尔条纹；其特征在于，所述第一组圆形光栅包括第一圆形光栅及第二圆形光栅，且第一圆形光栅和第二圆形光栅的占空比相等，并在形成所述第一组莫尔条纹的过程中相对静止；所述第二组圆形光栅包括第一圆形光栅及第二圆形光栅，且第一圆形光栅和第二圆形光栅的占空比相等，并在形成所述第二组莫尔条纹的过程中相对静止；根据所述第一组莫尔条纹和第二组莫尔条纹的斜率以获得所述第一组圆形光栅的第二圆形光栅和第二组圆形光栅的第二圆形光栅的圆心位置。