发明名称 半导体装置
摘要 本发明提供半导体装置。本实施方式的半导体装置具备:半导体基板;上端部的直径尺寸比下端部的直径尺寸大的第1接触插塞;覆盖第1接触插塞的第1绝缘膜;下端部接合于第1接触插塞的上端部且上端部的直径尺寸比下端部的直径尺寸小的第2接触插塞;覆盖第2接触插塞的第2绝缘膜;在下端部接合有第2接触插塞的上端部的布线层;覆盖布线层的第3绝缘膜;和在第1接触插塞的上端部中的未由第2接触插塞的下端部覆盖的部分所形成的台阶。
申请公布号 CN104465565A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201410085649.8 申请日期 2014.03.10
申请人 株式会社东芝 发明人 兼子元;岛田庆一;臼井孝公
分类号 H01L23/48(2006.01)I;H01L23/52(2006.01)I 主分类号 H01L23/48(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 万利军;陈海红
主权项 一种半导体装置,其特征在于,具备:半导体基板;第1接触插塞,其上端部的直径尺寸比下端部的直径尺寸大;第1绝缘膜,其形成在所述半导体基板上,覆盖所述第1接触插塞;第2接触插塞,其下端部接合于所述第1接触插塞的上端部,其上端部的直径尺寸比下端部的直径尺寸小;第2绝缘膜,其形成在所述第1绝缘膜以及所述第1接触插塞之上,覆盖所述第2接触插塞;布线层,在其下端部接合有所述第2接触插塞的上端部;和第3绝缘膜,其形成在所述第2绝缘膜以及所述第2接触插塞之上,覆盖所述布线层,还具备台阶,该台阶形成在所述第1接触插塞的上端部中的、未被所述第2接触插塞的下端部所覆盖的部分。
地址 日本东京都