发明名称 |
半导体装置 |
摘要 |
本发明提供半导体装置。本实施方式的半导体装置具备:半导体基板;上端部的直径尺寸比下端部的直径尺寸大的第1接触插塞;覆盖第1接触插塞的第1绝缘膜;下端部接合于第1接触插塞的上端部且上端部的直径尺寸比下端部的直径尺寸小的第2接触插塞;覆盖第2接触插塞的第2绝缘膜;在下端部接合有第2接触插塞的上端部的布线层;覆盖布线层的第3绝缘膜;和在第1接触插塞的上端部中的未由第2接触插塞的下端部覆盖的部分所形成的台阶。 |
申请公布号 |
CN104465565A |
申请公布日期 |
2015.03.25 |
申请号 |
CN201410085649.8 |
申请日期 |
2014.03.10 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
兼子元;岛田庆一;臼井孝公 |
分类号 |
H01L23/48(2006.01)I;H01L23/52(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/48(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
万利军;陈海红 |
主权项 |
一种半导体装置,其特征在于,具备:半导体基板;第1接触插塞,其上端部的直径尺寸比下端部的直径尺寸大;第1绝缘膜,其形成在所述半导体基板上,覆盖所述第1接触插塞;第2接触插塞,其下端部接合于所述第1接触插塞的上端部,其上端部的直径尺寸比下端部的直径尺寸小;第2绝缘膜,其形成在所述第1绝缘膜以及所述第1接触插塞之上,覆盖所述第2接触插塞;布线层,在其下端部接合有所述第2接触插塞的上端部;和第3绝缘膜,其形成在所述第2绝缘膜以及所述第2接触插塞之上,覆盖所述布线层,还具备台阶,该台阶形成在所述第1接触插塞的上端部中的、未被所述第2接触插塞的下端部所覆盖的部分。 |
地址 |
日本东京都 |