发明名称 一种双面生长的硅基四结太阳电池
摘要 本发明公开了一种双面生长的硅基四结太阳电池,包括作为衬底的Si子电池,位于衬底上表面的GaAs<sub>x</sub>P<sub>1-x</sub>、GaIn<sub>x</sub>P<sub>1-x</sub>子电池,以及位于衬底下表面的Ge子电池,所述GaAs<sub>x</sub>P<sub>1-x</sub>和GaIn<sub>x</sub>P<sub>1-x</sub>子电池通过GaAs<sub>x</sub>P<sub>1-x</sub>组分渐变缓冲层与Si子电池连接,所述Ge子电池通过Si<sub>x</sub>Ge<sub>1-x</sub>组分渐变缓冲层与Si子电池连接,所述GaIn<sub>x</sub>P<sub>1-x</sub>和GaAs<sub>x</sub>P<sub>1-x</sub>子电池之间、GaAs<sub>x</sub>P<sub>1-x</sub>子电池和Si子电池之间、Si子电池与Ge子电池之间通过隧穿结连接。本发明利用Si衬底制备级联的四结电池,带隙组合在1.95/1.5/1.12/0.67eV左右,可以在降低成本的同时,提高该电池的光电转换效率。
申请公布号 CN104465809A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201410718143.6 申请日期 2014.11.28
申请人 瑞德兴阳新能源技术有限公司 发明人 陈丙振;张小宾;王雷;潘旭;张露;张杨;杨柏
分类号 H01L31/0304(2006.01)I;H01L31/02(2006.01)I;H01L31/04(2014.01)I 主分类号 H01L31/0304(2006.01)I
代理机构 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人 黄磊
主权项 一种双面生长的硅基四结太阳电池,包括作为衬底的Si子电池,其特征在于:在所述Si子电池的上表面按照层状叠加结构从上至下依次设置有GaIn<sub>x</sub>P<sub>1‑x</sub>子电池、GaAs<sub>x</sub>P<sub>1‑x</sub>子电池、GaAs<sub>x</sub>P<sub>1‑x</sub>组分渐变缓冲层;在所述Si子电池的下表面按照层状叠加结构从上至下依次设置有Si<sub>x</sub>Ge<sub>1‑x</sub>组分渐变缓冲层和Ge子电池;其中,所述GaIn<sub>x</sub>P<sub>1‑x</sub>子电池和GaAs<sub>x</sub>P<sub>1‑x</sub>子电池之间通过第三隧道结连接,所述GaAs<sub>x</sub>P<sub>1‑x</sub>子电池和Si子电池之间通过位于GaAs<sub>x</sub>P<sub>1‑x</sub>组分渐变缓冲层之上的第二隧道结连接,所述Si子电池和Ge子电池之间通过位于Si<sub>x</sub>Ge<sub>1‑x</sub>组分渐变缓冲层之上的第一隧道结连接;所述GaIn<sub>x</sub>P<sub>1‑x</sub>子电池和GaAs<sub>x</sub>P<sub>1‑x</sub>子电池晶格匹配。
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