发明名称 用薄膜密封的有机发光二极管及其制造方法
摘要 本发明实施例公开了一种用薄膜密封的有机发光二极管(OLED)及其制造方法。所述有机发光二极管包括:基板;基板上依次形成的透明电极层、有机发光材料层和阴极金属层;阴极金属层上形成的密封层;所述密封层为五氧化二钽(Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>)薄膜。所述有机发光二极管制造方法,包括:提供基板;在基板上依次形成透明电极层、有机发光材料层和阴极金属层;在阴极金属层上形成五氧化二钽薄膜。本发明实施例所提供的技术方案,在有机发光二极管的阴极金属层上形成了具有高几何致密度和光学致密度、且表面平坦的五氧化二钽薄膜,以密封该器件内部的有机材料,隔绝有机材料与水汽和氧气的接触,该方案工艺简单,可以得到具有密封隔绝效果好、工作寿命长的有机发光二极管。
申请公布号 CN102651453B 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201110046398.9 申请日期 2011.02.25
申请人 苏州大学 发明人 狄国庆
分类号 H01L51/50(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I 主分类号 H01L51/50(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 逯长明
主权项 一种用薄膜密封的有机发光二极管,其特征在于,包括:基板;基板上依次形成的透明电极层、有机发光材料层和阴极金属层;阴极金属层上形成的密封层,所述密封层为五氧化二钽薄膜,所述五氧化二钽薄膜具有高几何致密度和光学致密度、且表面平坦以密封该有机发光二极管内部的有机材料,隔绝所述有机材料与水汽和氧气;所述五氧化二钽薄膜采用磁控溅射镀膜工艺在室温下制备,所述磁控溅射镀膜工艺具体为,采用射频磁控溅射在纯Ar或掺氧气氛下直接溅射五氧化二钽氧化物靶材淀积形成,所述五氧化二钽薄膜的厚度为50nm~500nm;柔性塑料薄膜、片状PC塑料或玻璃;所述柔性塑料薄膜、片状PC塑料或玻璃通过紫外固化环氧固化剂与五氧化二钽薄膜面胶合、形成柔性的或刚性的器件。
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