发明名称 用于光刻设备的参考光栅装调装置及方法
摘要 本发明公开一种用于光刻设备的参考光栅装调装置及方法,按照光束传播的方向依次包括:激光光源、振动镜、反射镜、第一透镜组、光阑及第二透镜组,用于将参考光栅调整至焦平面处,还包括一光强调校单元,用以调整所述激光光源的输出光束的光强。
申请公布号 CN102540743B 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201010606285.5 申请日期 2010.12.22
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 陈振飞;王海江
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人 王光辉
主权项 一种用于光刻设备的参考光栅装调装置,按照光束传播的方向依次包括:激光光源、振动镜、反射镜、第一透镜组、光阑及第二透镜组,用于将参考光栅调整至所述第二透镜组的焦平面处,其特征在于:还包括一光强调校单元,用以调整所述激光光源输出光束的光强,所述光强调校单元包括光强传感器、信号采集器、振动镜控制器及激光光源控制器,所述光强传感器用于探测透过所述振动镜的光束的光强信号,所述信号采集器用于将光强信号转化为数字信号,所述激光光源控制器根据所述数字信号控制激光光源的光强,所述振动镜控制器用于控制所述振动镜的振动角度,同时,激光器控制装置接受来自所述振动镜控制装置的所述振动镜角度信号,用于确定振动镜角度与透过所述振动镜的光强信号之间的关系。
地址 201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号