| 发明名称 | 一种非晶YAlO薄膜及其在柔性金属基带上的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种非晶YAlO薄膜及其在柔性金属基带上的制备方法，属于电子材料领域。所述非晶YAlO薄膜由氧化钇和氧化铝组成，且氧化钇与氧化铝的摩尔比为(1～10):1。本发明得到的YAlO薄膜为非晶结构，表面粗糙度小于2nm，具有良好的平整度，且结晶温度在1000℃以上，性能稳定。与传统的氧化钇薄膜相比，更适合用于金属基带平坦化的过渡层，可实现在其上生长高质量的功能氧化物薄膜；同时，该薄膜还可以作为阻挡层，可有效阻挡金属基带与功能薄膜之间的互扩散，为实现在柔性金属基带上生长高质量的功能薄膜提供了必要的条件。 | ||
| 申请公布号 | CN104451609A | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN201410627994.X | 申请日期 | 2014.11.07 |
| 申请人 | 电子科技大学 | 发明人 | 赵晓辉;张盼;陶伯万 |
| 分类号 | C23C18/12(2006.01)I | 主分类号 | C23C18/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人 | 李明光 |
| 主权项 | 一种非晶YAlO薄膜，其特征在于，所述薄膜由氧化钇和氧化铝组成，所述氧化钇与氧化铝的摩尔比为(1～10):1。 | ||
| 地址 | 611731 四川省成都市高新区（西区）西源大道2006号 | ||