| 发明名称 | 用于光刻的包含嵌段共聚物的组合物和方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于浸没式光刻方法的新的光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种嵌段共聚物。在浸没式光刻过程中使用本发明特别优选的光刻胶，表现出减少光刻胶材料向与光刻胶层接触的浸没液中的浸出。 | ||
| 申请公布号 | CN101900953B | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN200910249083.7 | 申请日期 | 2009.11.19 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 发明人 | D·王;C·R·斯兹曼达;G·G·巴克雷;C·-B·徐 |
| 分类号 | G03F7/26(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈哲锋 |
| 主权项 | 一种处理光刻胶组合物的方法，包括：(a)在基材上施涂光刻胶组合物，该组合物包括：(ⅰ)一种或多种树脂，(ⅱ)光活性组分，和(ⅲ)与一种或多种树脂不同的一种或多种嵌段共聚物，所述一种或多种嵌段共聚物包含磺酰胺基和/或羧基，所述一种或多种嵌段共聚物至少包含三种不同的嵌段；所述一种或多种嵌段共聚物包括以下：<img file="FDA0000589577610000011.GIF" wi="1638" he="1650" /><img file="FDA0000589577610000021.GIF" wi="1487" he="799" />以及(b)使光刻胶层浸没式曝光于活化该光刻胶组合物的辐射中。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||