发明名称 磁控溅射镀膜真空箱体
摘要 本发明公开了一种磁控溅射镀膜真空箱体,属于薄膜制备设备技术领域。解决了现有技术中磁控溅射镀膜真空箱体结构固定、耗费人力大,对体积限制性强,对于大口径SiC表面改性的局限性大的技术问题。该真空箱体,包括箱盖、上箱体、下箱体、液压支撑机构和滑板;上箱体和下箱体的侧壁上设有多个法兰口和多个冷却水管,箱盖的上表面、上箱体的侧壁和下箱体的侧壁上均设有加强筋。该真空箱体、上箱体和下箱体均可分别拆卸,下箱体可单独或者同上箱体共同随滑板移动,箱盖可以单独也可以同上箱体共同升降,利于借助吊装机械设备对磁控溅射设备进行安装、清洁及维护保养,操作方便,降低人力耗费。
申请公布号 CN104451581A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201410835443.2 申请日期 2014.12.29
申请人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发明人 高劲松;刘震;刘海;王笑夷;杨海贵;王彤彤;申振峰
分类号 C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人 王丹阳
主权项 磁控溅射镀膜真空箱体,其特征在于,包括箱盖(1)、上箱体(2)、下箱体(3)、液压支撑机构(4)和滑板(5);所述下箱体(3)为顶端开口的中空结构,侧壁上设有维修门(3‑1),下箱体(3)放置在滑板(5)上;所述上箱体(2)为两端开口的中空结构,上箱体(2)的底端开口与下箱体(3)的顶端开口配合,且可以通过多个可拆卸挂钩(6)固定连接;所述箱盖(1)由一个盖体(1‑1)、两根横梁(1‑2)和多个真空泵(1‑3)组成,所述盖体(1‑1)盖在上箱体(2)上,盖体(1‑1)的边缘与上箱体(2)的顶端开口配合,且可以通过多个可拆卸挂钩(6)固定连接,箱盖(1)、上箱体(2)和下箱体(3)形成密封腔体,所述两根横梁(1‑2)平行固定在盖体(1‑1)的上表面上,且每根横梁(1‑2)的两端均伸出盖体(1‑1)的上表面,所述多个真空泵(1‑3)均固定在盖体(1‑1)上且贯穿盖体(1‑1)伸入密封腔体中;所述上箱体(2)的侧壁和下箱体(3)的侧壁上均设有多个法兰口(8)和多个冷却水管(9),每个冷却水管(9)的两端分别设有进水口和出水口;所述箱盖(1)的上表面、上箱体(2)的侧壁和下箱体(3)的侧壁上均设有加强筋(7);所述液压支撑机构(4)共四个,底端均固定在地面上,每两个液压支撑机构(4)的顶端支撑一个横梁(1‑2)的两端。
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