一种高高宽比X射线透镜的制备的方法

摘要

本发明属于电子束光刻加工技术领域，具体为一种高高宽比X射线透镜的制备方法。其步骤包括：在淀积有金属种子层的基片或者隔膜上，利用电子束曝光技术在光刻胶上制备出X光会聚透镜的设计图形，然后利用纳米电镀的工艺，得到高高宽比的condenser结构，最后利用丙酮等有机溶液将光刻胶溶解，从而得到具有高高宽比的应用于X射线成像领域的condenser透镜。

主权项

一种高高宽比X射线透镜的制备方法，其特征在于具体步骤如下：(1)在基底上制备一层金属导电层，作为种子层；(2)在基底上旋涂光刻胶，利用电子束光刻的方法制备得到X射线透镜的光刻胶的图形；(3)采用纳米电镀的工艺，对步骤（2）得到的样品进行电镀，得到高高宽比的X射线透镜；(4)将电镀的样品放入有机溶剂中，将表面的光刻胶清洗干净；然后将基底表面的导电种子层去掉。