发明名称 半导体装置
摘要 本发明提供一种半导体装置,其能够低廉地进行制造且是降低了反馈电容的沟槽栅型。具有:半导体基板,其是层叠第1半导体区、第2半导体区、第3半导体区、以及第4半导体区而成的;绝缘膜,其配置在槽的内壁上,该槽从第4半导体区的上表面延伸,贯通第4半导体区以及第3半导体区而达到第2半导体区;控制电极,其在槽的侧面,与第3半导体区的侧面相对地配置在绝缘膜上;第1主电极,其与第1半导体区电连接;第2主电极,其与第3半导体区以及第4半导体区电连接;底面电极,其在槽的底面中与控制电极分离地配置在绝缘膜上,与第2主电极电连接,其中,在俯视时,槽的延伸方向的长度为槽的宽度以上,且,槽的宽度大于相邻的槽彼此之间的间隔。
申请公布号 CN104465718A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201410478175.3 申请日期 2014.09.18
申请人 三垦电气株式会社 发明人 川尻智司
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I 主分类号 H01L29/06(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 李辉;黄纶伟
主权项 一种半导体装置,其特征在于,该半导体装置具有:第1导电型的第1半导体区;第2导电型的第2半导体区,其配置在所述第1半导体区之上;第1导电型的第3半导体区,其配置在所述第2半导体区之上;多个第2导电型的第4半导体区,它们配置在所述第3半导体区之上;绝缘膜,其分别配置在槽的内壁上,该槽从所述第4半导体区的上表面延伸,贯通所述第4半导体区以及所述第3半导体区,到达所述第2半导体区;控制电极,其在所述槽的侧面中被配置在所述绝缘膜的与所述第3半导体区的侧面相对的区域上;第1主电极,其与所述第1半导体区电连接;第2主电极,其与所述第4半导体区电连接;以及底面电极,其在所述槽的底面上与所述控制电极分离地配置在所述绝缘膜之上,并与所述第2主电极电连接,在俯视时,所述槽的延伸方向的长度为所述槽的宽度以上,且所述槽的宽度大于相邻的所述槽彼此之间的间隔。
地址 日本埼玉县
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