一种阵列基板及其制造方法和显示器件

摘要

本发明实施例提供一种阵列基板及其制造方法和显示器件，涉及显示技术领域。该阵列基板制造方法为：通过第一次构图工艺在基板上形成包括栅电极和栅线的图形；通过第二次构图工艺形成包括数据线、源电极、漏电极、像素电极和沟道区域的图形；通过第三次构图工艺形成公共电极的图形。减少了构图工艺处理次数，从而简化了制造流程，降低了制造成本。本发明实施例用于ADS型阵列基板制造。

主权项

一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板为ADS型阵列基板，包括：在所述基板上从下至上依次设置的栅线和栅电极、栅绝缘层、半导体层、掺杂半导体层和像素电极，其中栅线和栅电极同层设置；形成在所述像素电极所在层之上的数据线、源电极和漏电极，所述源电极和漏电极被沟道区域隔开，所述掺杂半导体层在沟道区域断开；其中，所述源电极下方不保留像素电极材料；形成在所述源电极、漏电极以及像素电极之上的钝化层；形成在所述钝化层上的公共电极。