发明名称 T形源-漏复合场板功率器件
摘要 本发明公开了一种T形源-漏复合场板功率器件,主要解决现有场板技术在实现高击穿电压时工艺复杂的问题。其包括:衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、肖特基漏极(5)、台面(6)、栅槽(7)、栅极(8)、钝化层(9)和保护层(14)。钝化层(9)内刻有源槽(10)和漏槽(11),钝化层(9)与保护层(14)之间淀积有T形源场板(12)和T形漏场板(13);T形源场板(12)与源极(4)电气连接,且下端完全填充在源槽(10)内;T形漏场板(13)与肖特基漏极(5)电气连接,且下端完全填充在漏槽(11)内。本发明具有制作工艺简单、正向特性与反向特性好以及成品率高的优点,可作为开关器件。
申请公布号 CN104465747A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201410658902.4 申请日期 2014.11.18
申请人 西安电子科技大学 发明人 毛维;佘伟波;张延涛;杨;张进成;马佩军;郝跃
分类号 H01L29/778(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I 主分类号 H01L29/778(2006.01)I
代理机构 陕西电子工业专利中心 61205 代理人 王品华;朱红星
主权项 一种T形源‑漏复合场板功率器件,自下而上包括:衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、钝化层(9)和保护层(14),势垒层的上面淀积有源极(4)与肖特基漏极(5),势垒层的侧面刻有台面(6),且台面深度大于势垒层厚度,势垒层内刻有栅槽(7),栅槽(7)内淀积有栅极(8),其特征在于:钝化层(9)内刻有源槽(10)和漏槽(11);钝化层(9)与保护层(14)之间淀积有T形源场板(12)和T形漏场板(13);所述T形源场板(12)与源极(4)电气连接,且下端完全填充在源槽(10)内;所述T形漏场板(13)与肖特基漏极(5)电气连接,且下端完全填充在漏槽(11)内。
地址 710071 陕西省西安市太白南路2号