发明名称 一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件的三维互联结构及三维互联方法
摘要 本发明涉及一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件三维互联技术,包括两个或两个以上的二极管,单个二极管包括从下至上排列的Si衬底层(1)、GaN外延层(2)、电极层,其中所述电极层的阴极(3)和阳极(4)相对、且间隔开地设置在GaN外延层(2)上,其特征在于:两个或者两个以上的二极管键合成上下叠装的层状结构、且上下相邻的两层二极管的接触面均由绝缘层(6)隔开,各层二极管的阴极和阳极分别排成一竖列;除位于最底层的二极管外,其上层的所有二极管和绝缘层由两竖向通孔贯穿,所述两竖向通孔分别位于对应各二极管的阴极(3)和阳极(4)的位置;所述两竖向通孔孔壁分别沉积有一绝缘层(6);所述两竖向通孔(2、3)内沉积有联通各层二极管的对应电极的金属(7)。本发明可实现二极管之间的叠装。
申请公布号 CN104465631A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201410648060.4 申请日期 2014.11.14
申请人 中山大学 发明人 刘扬;周桂林;张佰君
分类号 H01L25/07(2006.01)I;H01L23/532(2006.01)I;H01L29/872(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L25/07(2006.01)I
代理机构 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人 陈卫
主权项 一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件的三维互联结构,包括两个或两个以上的二极管,单个二极管包括从下至上排列的Si衬底层(1)、GaN外延层(2)、电极层,其中所述电极层的阴极(3)和阳极(4)相对、且间隔开地设置在GaN外延层(2)上,其特征在于:两个或者两个以上的二极管键合成上下叠装的层状结构、且上下相邻的两层二极管的接触面均由绝缘层(6)隔开,各层二极管的阴极和阳极分别排成一竖列;除位于最底层的二极管外,其上层的所有二极管和绝缘层由两竖向通孔贯穿,所述两竖向通孔分别位于对应各二极管的阴极(3)和阳极(4)的位置;所述两竖向通孔孔壁分别沉积有一绝缘层(6);所述两竖向通孔(2、3)内沉积有联通各层二极管的对应电极的金属(7)。
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