| 发明名称 | 真空清洁装置 | ||
| 摘要 | 真空清洁装置，包括：具有在应用时被定位成邻近待清洁表面的下表面(110)的清洁头(102)。气流通道(112)被界定在清洁头(102)内，该气流通道(112)具有配置成连接至真空源的第一端和界定紧邻清洁头(102)的下表面(110)的开口(118)的第二端，通过该开口(118)真空被施加至清洁表面。至少一个振动元件(130)被定位成紧邻清洁头(102)的下表面(110)，其被安置成当清洁头被定位成邻近于清洁表面时将振动施加至清洁表面。此外，至少一个振动致动器(136)被包括用于使至少一个振动元件(130)振动。至少一个振动致动器(136)被定位在密封外壳内，该密封外壳被从穿过气流通道(112)的气流密封以从其隔离致动器(136)。 | ||
| 申请公布号 | CN104470412A | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN201380038527.7 | 申请日期 | 2013.05.13 |
| 申请人 | 布莱恩·约翰·伊格尔斯托内 | 发明人 | 布莱恩·约翰·伊格尔斯托内 |
| 分类号 | A47L9/04(2006.01)I | 主分类号 | A47L9/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人 | 孙静;王漪 |
| 主权项 | 一种真空清洁装置，包括：清洁头，其具有下表面，所述下表面在使用时邻近待清洁的表面定位；界定在所述清洁头内的气流通道，所述气流通道具有第一端和第二端，所述第一端配置成连接到真空源，所述第二端界定紧邻所述清洁头的所述下表面的开口，真空穿过所述开口施加到清洁表面；至少一个振动元件，其紧邻所述清洁头的所述下表面定位，布置成当所述清洁头邻近其定位时将振动施加到所述清洁表面；以及至少一个振动致动器，其用于引起所述至少一个振动元件振动；其中所述至少一个振动致动器定位在密封的外壳内，所述密封的外壳与穿过所述气流通道的气流密封开以使所述致动器与其隔离。 | ||
| 地址 | 英国莱姆斯特 | ||