保持垫

摘要

提供一种可提高保持面的平坦性精度并提升被研磨物的面内均一性的保持垫。保持垫(10)具备胺基甲酸乙酯薄片(2)。此胺基甲酸乙酯薄片(2)是借由湿式凝固法而形成的，具有用以保持被研磨物的保持面(Sh)。胺基甲酸乙酯薄片(2)具有微多孔构造的表肤层(2a)，在比表肤层(2a)更为内侧上，则形成有横跨大致全体厚度的多数个发泡(3)。在胺基甲酸乙酯薄片(2)中，当厚度设为(t)时，自背面(Sr)至朝内侧厚度0.1t分量的范围内形成有发泡(3)的底部。自背面(Sr)至朝向内侧厚度0.1t分量并与背面(Sr)相平行的剖面、以及朝向内侧厚度0.4t分量并与背面(Sr)相平行的剖面间所包挟的下层部(Pr)，发泡(3)所生成的空隙率可于75-95％的范围内进行调整。在研磨加工时可增大下层部的压缩变形量。

主权项

一种保持垫，其特征在于：具备借由湿式凝固法而形成有纵型发泡的树脂薄片的保持垫中，所述的树脂薄片具有用以保持被研磨物的保持面，所述的树脂薄片自与所述的保持面相对的背面至朝向内侧延伸全体厚度的10％分量为止的范围内，形成所述的发泡的底部，且自所述的背面至朝向内侧延伸所述的全体厚度的10％分量并与所述的背面相平行的剖面、以及朝向内侧延伸40％分量并与所述的背面相平行的剖面间所包挟的下层部的空隙率是介于70％以上95％以下，所述的树脂薄片当在自所述的保持面至朝向内侧延伸所述的全体厚度的10％分量并与所述的保持面相平行的剖面上，将所述的发泡所形成的孔的平均孔径设为A，且当在所述的下层部中与所述的保持面相平行的剖面上，将所述的发泡所形成的孔的最大孔径设为B时，则比值B/A是介于20‑50的范围，所述的树脂薄片自所述的保持面至朝向内侧延伸全体厚度的10％分量并与所述的保持面相平行的剖面、以及朝向内侧延伸40％分量并与所述的保持面相平行的剖面间所包挟的上层部的空隙率是介于35％以上55％以下，形成于所述的下层部的所述的发泡间的树脂部分为薄壁化。