发明名称 一种二维近程微波全息成像方法
摘要 本发明公开一种二维近程微波全息成像方法,其通过真实测量或模拟方式获取目标散射场和入射场的参数数据,能够获取更为真实的目标散射场和入射场,从而解决了近程毫米波全息成像技术中假设入射场为球面波或柱面波的不合理性;求解目标图像中利用超定方程组的最小二乘解作为目标函数的二维傅里叶变换,能够扩大成像目标的范围以及提高目标在不同的背景环境下的成像的清晰度和精准度。
申请公布号 CN104459691A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201410783899.9 申请日期 2014.12.16
申请人 桂林电子科技大学;中国科学院上海天文台 发明人 王俊义;劳保强;龚赟;符杰林;李燕龙;刘争红;郑霖;仇洪冰;王玫;林基明;安涛
分类号 G01S13/89(2006.01)I 主分类号 G01S13/89(2006.01)I
代理机构 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 45107 代理人 陈跃琳
主权项 一种二维近程微波全息成像方法,其特征是,包括如下步骤:步骤1,分别设定发射天线和接收天线的X轴和Y轴的起止位置和扫描路径;步骤2,将待重构的目标放置在发射天线和接收天线之间,发射天线、接收天线和目标组成1个二端口网络,其中发射天线和接收天线作为二端口;步骤3,按照步骤1的设定控制发射天线和接收天线对待重构的目标进行扫描,由此在每个扫描位置上获得4个S参数;步骤4,去掉待重构的目标,并按照步骤1的设定控制发射天线和接收天线对目标进行扫描,由此在每个扫描位置上获得4个耦合S参数和4个对应目标平面的近场数据;步骤5,将步骤3所得的目标当前位置散射数据即4个S参数分别减去步骤4所得的4个耦合S参数,得到每个扫描位置的所对应的4个校准S参数;步骤6,将步骤3所得的4个目标平面的近场数据分别代入散射参数计算公式中得出4个散射参数;步骤7,将步骤5所得的4个校准S参数和所对应的步骤6所得4个散射参数代入到目标密度参数计算公式中,获得4个超定方程;步骤8,求解步骤7所得的4个超定方程所组成的超定方程组的最小二乘解;步骤9,对步骤8所得的最小二乘解的结果进行二维傅里叶逆变换后获得目标密度参数,由此重构出目标。
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