一种大樱桃设施栽培的温度调控方法

摘要

本发明公开了一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，属于果树栽培领域。该发明在芽萌动前、萌芽后到花前、花期、坐果后4个时期对设施内温度进行调控，创造最适宜大樱桃生长发育的温度，实现提高樱桃树的成活率、大樱桃的座果率和品质的效果。

主权项

一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，其特征在于，包括以下方法：A、芽萌动前的温度调控：从扣棚到芽萌动，约需一个月的时间，期间温度须缓慢上升，不宜过高，维持在6～10℃，白天高不超过15℃，夜间温度不能低于0℃；B、萌芽后到花前温度调控：花前温度控制在10～15℃，夜间温度不能低于8℃；C、花期温度调控：花期温度的控制在15～20℃，温度不能过高或过低，日温差不能超过12℃；D、坐果后温度调控：座果后温度维持在15～20℃为宜，最高不超过25℃，最低不低于10℃。