| 发明名称 | 单分散研磨液及其制备方法、无机氧化物溶胶制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明揭示了一种单分散研磨液，该单分散研磨液包括2-20份的纳米无机氧化物、0-15份的金属氧化剂、0-10份的防沉剂、0.1-5份的表面活性剂、0-10份的pH缓冲剂以及40-97份的溶剂，其中，所述纳米无机氧化物的粒径的相对标准偏差小于等于10%。本发明还揭示了一种单分散研磨液的制备方法以及无机氧化物溶胶制备方法。在本发明的单分散研磨液中，所述单分散研磨液中所述纳米无机氧化物的粒径分布均匀，采用所述单分散研磨液对晶片进行研磨时，不会对晶片划伤。 | ||
| 申请公布号 | CN104449564A | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN201310438757.4 | 申请日期 | 2013.09.23 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 王芬;蒋庆红;刘庆修;王立众;杨志强 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种单分散研磨液，按所述单分散研磨液重量100份计包括以下组份：<img file="FDA0000385899620000011.GIF" wi="1165" he="578" />其中，所述纳米无机氧化物的粒径的相对标准偏差小于等于10%。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||