发明名称 基于LTCC的多层烧结工艺
摘要 本发明公开了一种基于LTCC的多层烧结工艺,它包括:低损耗基板制作步骤:用功率损耗小的电路基片代替LTCC上微波电路部分基片;大尺寸器件装配步骤:将大尺寸器件粘接在LTCC上并进行包裹加固;LTCC与金属腔连接的步骤:用载板过渡连接替换LTCC直接与金属腔连接;LTCC多芯片烧结步骤:将芯片在多个载板上组合后粘接在LTCC上,扩大热容。本发明提供了一种基于LTCC的多层烧结工艺,解决了LTCC介电常数大、损耗大、可焊性差、可返修性差,LTCC与铝合金材料热膨胀系数差异大导致装配困难等技术问题,提高了产品可靠性,具有很强的可操作性,经济可行。
申请公布号 CN104446522A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201510000543.8 申请日期 2015.01.04
申请人 成都泰格微电子研究所有限责任公司 发明人 杜亚军;唐世芳
分类号 C04B35/64(2006.01)I;H01L21/48(2006.01)I 主分类号 C04B35/64(2006.01)I
代理机构 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 代理人 袁英
主权项 基于LTCC的多层烧结工艺,其特征在于:它包括一个低损耗基板制作步骤、一个大尺寸器件装配步骤、一个LTCC与金属腔连接的步骤和一个LTCC多芯片烧结步骤;(1)低损耗基板制作步骤:用功率损耗小的电路基片代替LTCC上微波电路部分基片;(2)大尺寸器件装配步骤:将大尺寸器件粘接在LTCC上并进行包裹加固;(3)LTCC与金属腔连接的步骤:用载板过渡连接替换LTCC直接与金属腔连接;(4)LTCC多芯片烧结步骤:将芯片在多个载板上组合后粘接在LTCC上,扩大热容。
地址 611731 四川省成都市高新西区新文路18号