金属光栅的制备方法

摘要

本发明涉及一种金属光栅的制备方法，其包括以下步骤：提供一基底；在所述基底的表面设置一金属层；在所述金属层远离基底的表面设置一图形化的掩模层，该图形化的掩模层覆盖所述金属层表面的部分区域，并暴露所述金属层表面的其余区域；用物理性刻蚀气体和反应性刻蚀气体同时刻蚀所述金属层，使所述金属层的表面形成多个第三凹槽；以及去除所述图形化的掩模层。

主权项

一种金属光栅的制备方法，其包括以下步骤：提供一基底；在所述基底的表面设置一金属层；在所述金属层远离基底的表面设置一图形化的掩模层，所述图形化的掩模层覆盖所述金属层表面的部分区域，并暴露所述金属层表面的其余区域；用物理性刻蚀气体和反应性刻蚀气体同时刻蚀所述金属层表面的其余区域，使所述金属层表面形成多个凹槽；以及去除所述图形化的掩模层。