发明名称 轨道维护基点平面测量方法
摘要 本发明涉及测绘领域,具体涉及轨道维护基点平面测量方法,其特征在于:所述方法至少包括以下步骤:将观测仪器架设在任一所述轨道维护基点上,将该轨道维护基点作为第一设站点;观测所述第一设站点沿轨道方向前后至少各三对CPⅢ点;观测所述第一设站点本身、其对侧轨道上沿轨道方向前后的各一个轨道维护基点以及其同侧轨道上相隔一个轨道维护基点的前一轨道维护基点;观测完毕后,将所述观测仪器移至第二设站点并进行观测,所述第二设站点位于所述第一设站点的对侧轨道前方上,且所述第一设站点与所述第二设站点之间相隔两对所述CPⅢ点。本发明的优点是:能够在进行轨道控制(CPIII)时将所有的轨道维护点一并观测。
申请公布号 CN103103899B 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201310049538.7 申请日期 2013.02.07
申请人 中铁上海设计院集团有限公司 发明人 王文庆;陈军;金亚雷;雷军;帅明明
分类号 E01B35/00(2006.01)I 主分类号 E01B35/00(2006.01)I
代理机构 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 代理人 徐小蓉
主权项 轨道维护基点平面测量方法,所述轨道上沿其延伸方向阵列设置有轨道维护基点和轨道控制网点,所述轨道控制网点对中于所述轨道的板缝,所述轨道维护基点为布设于所述板缝内的强制对中控制点,所述轨道控制网点位于所述轨道外侧,其特征在于:所述方法至少包括以下步骤:(a)将观测仪器架设在任一所述轨道维护基点上,将该轨道维护基点作为第一设站点;(b)观测所述第一设站点沿轨道方向前后至少各三对轨道控制网点;观测所述第一设站点本身、其对侧轨道上沿轨道方向前后的各一个轨道维护基点以及其同侧轨道上相隔一个轨道维护基点的前一轨道维护基点;(c)观测完毕后,将所述观测仪器移至第二设站点并按步骤(b)进行观测,所述第二设站点位于所述第一设站点的对侧轨道前方上,且所述第一设站点与所述第二设站点之间相隔两对所述轨道控制网点。
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