| 发明名称 | 掩模及其图案配置方法与曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种掩模及其图案配置方法与曝光方法。掩模的图案配置方法包括以下步骤：将多个几何图案以多行排列于一掩模；排列于奇多行的几何图案的排列方式相似，排列于偶多行的几何图案的排列方式相似；选取二奇多行或二偶多行为一第一边界行及一第二边界行；于第一边界行及第二边界行的各个对应处，仅挑选第一边界行或第二边界行配置一个几何图案。 | ||
| 申请公布号 | CN103246158B | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN201310004794.4 | 申请日期 | 2013.01.07 |
| 申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 巫世荣;谢绍伟 |
| 分类号 | G03F1/70(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/70(2012.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 任岩 |
| 主权项 | 一种掩模的图案配置方法，包括：将多个几何图案以多行排列于一掩模，排列于奇多行的该多个几何图案的排列方式相似，排列于偶多行的该多个几何图案的排列方式相似；选取二奇多行或二偶多行为一第一边界行及一第二边界行；以及于该第一边界行及该第二边界行的各个对应处，仅挑选该第一边界行或该第二边界行配置一个几何图案；其中，相邻行的该多个几何图案的间距小于各该几何图案的宽度。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区力行路16号 | ||