发明名称 噁唑化合物的合成中间体及其制备方法
摘要 本发明的目标是提供一种高产率制备噁唑化合物的方法。可以通过式(11)表示的化合物实现目标,其中R<sup>1</sup>是氢原子或低级烷基;R<sup>2</sup>是在4位由选自以下的取代基取代的1-哌啶基:(A1a)苯氧基,其在苯基部分上由一个或多个卤素取代的低级烷氧基取代,(A1b)苯氧基取代的低级烷基,其在苯基部分上由一个或多个卤素取代的低级烷基取代,(A1c)苯基取代的低级烷氧基低级烷基,其在苯基部分上由卤素取代,(A1d)苯基取代的低级烷基,其在苯基部分上由一个或多个卤素取代的低级烷氧基取代,(A1e)苯基取代的氨基,所述苯基由一个或多个卤素取代的低级烷氧基及低级烷基取代,和(A1f)苯基取代的低级烷氧基,其在苯基部分上由一个或多个卤素取代的低级烷氧基取代;n是从1到6的整数;且X<sup>3</sup>是有机磺酰氧基。<img file="DPA00001581294200011.GIF" wi="1031" he="216" />
申请公布号 CN102725269B 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201180006814.0 申请日期 2011.01.28
申请人 大塚制药株式会社 发明人 山本明弘;新滨光一;藤田展久;安艺晋治;小笠原新;宇积尚登
分类号 C07D211/46(2006.01)I;C07D405/12(2006.01)I;C07D498/04(2006.01)I 主分类号 C07D211/46(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 杨宏军
主权项 式(11)表示的化合物:<img file="FDA0000459902390000011.GIF" wi="1029" he="240" />其中R<sup>1</sup>是氢原子或C1‑6烷基;R<sup>2</sup>是在4位由选自以下的取代基取代的1‑哌啶基:(A1a)苯氧基,其在苯基部分上由一个或多个卤素取代的C1‑6烷氧基取代,(A1b)苯氧基取代的C1‑6烷基,其在苯基部分上由一个或多个卤素取代的C1‑6烷基取代,(A1c)苯基取代的C1‑6烷氧基C1‑6烷基,其在苯基部分上由卤素取代,(A1d)苯基取代的C1‑6烷基,其在苯基部分上由一个或多个卤素取代的C1‑6烷氧基取代,(A1e)苯基取代的氨基,所述苯基用由一个或多个卤素取代的C1‑6烷氧基及C1‑6烷基取代,和(A1f)苯基取代的C1‑6烷氧基,其在苯基部分上由一个或多个卤素取代的C1‑6烷氧基取代;n是从1到6的整数;且X<sup>3</sup>是有机磺酰氧基。
地址 日本东京都