| 发明名称 | 图案化薄层通过旋涂在基板上的沉积 | ||
| 摘要 | 一种在基板(10)的表面(11)上制造第一材料的图案化层(14)的方法，包含以下连续步骤：将颗粒(12)布置在基板(10)的表面(11)上；通过旋涂在基板(10)的表面(11)上沉积树脂(13)，从而形成第一材料的图案化层(14)以及穿过第一材料的层并通到颗粒(12)的孔(30)；颗粒(12)和树脂(13)的材料选择为使得颗粒(12)施加相对于树脂(13)的排斥互作用。 | ||
| 申请公布号 | CN104465409A | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN201410541375.9 | 申请日期 | 2014.07.29 |
| 申请人 | 原子能和代替能源委员会 | 发明人 | T·塞巴斯蒂安;M·贝德贾维;A·恩纳杰达维 |
| 分类号 | H01L21/48(2006.01)I;H01L23/498(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/48(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种在基板(10)的表面(11)上制造由第一材料制成的图案化层(14)的方法，包含以下连续步骤：·将颗粒(12)布置在所述基板(10)的表面(11)上；·通过旋涂在所述基板(10)的表面(11)上沉积树脂(13)，从而形成第一材料的所述图案化层(14)以及穿过第一材料的层(14)并通到所述颗粒(12)的孔(30)；所述颗粒(12)和所述树脂(13)的材料选择为使得所述颗粒(12)施加相对于所述树脂(13)的排斥互作用。 | ||
| 地址 | 法国巴黎 | ||