| 发明名称 | 栅偏振元件及栅偏振元件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种消光比在周边部不下降的优异的栅偏振元件。构成设置在透明基板(1)上的条纹状的栅格(2)的各线状部(3)由起到偏振作用的第一层(31)和位于第一层(31)的入射侧的第二层(32)构成。第二层(32)由透光性的材料形成，高度比第一层(31)低，由对形成第一层(31)时的蚀刻剂的耐性比第一层(31)高的材料形成。 | ||
| 申请公布号 | CN104459862A | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN201410495255.X | 申请日期 | 2014.09.24 |
| 申请人 | 优志旺电机株式会社 | 发明人 | 鹤冈和之 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 高迪 |
| 主权项 | 一种栅偏振元件，具备透明基板和设置在透明基板上的由多个线状部构成的条纹状的栅格，其特征在于，条纹状的栅格由起到偏振作用的透明基板侧的第一层和位于第一层的上侧的第二层构成，第二层由透光性的材料形成，高度比第一层低。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||