发明名称 |
一种具有高过载低加速度干扰的微压力传感器 |
摘要 |
一种具有高过载低加速度干扰的微压力传感器,包括硅质基底,硅质基底的背面中部设有空腔,硅质基底的背面与硼玻璃键合,硼玻璃的中部具有凸台结构,硅质基底的背面空腔与硼玻璃的凸台结构相配合,在硅质基底的正面腐蚀形成相互垂直的第一梁和第二梁,在硅质基底的背面腐蚀形成平膜,第一梁和第二梁与硅质基底四周的梁共同形成梁膜结构,第一梁和第二梁的两端沿着【100】晶向在应力最大处布置有压敏电阻,四个压敏电阻通过金属引线和焊盘相互连接组成惠斯通电桥,采用了硼玻璃的凸台结构,限位设计更加合理,在满足了高灵敏度与高线性度要求的同时,兼具高过载和高侧向效应抵抗能力的特性。 |
申请公布号 |
CN104458076A |
申请公布日期 |
2015.03.25 |
申请号 |
CN201410704912.7 |
申请日期 |
2014.11.26 |
申请人 |
西安交通大学;西安上尚机电有限公司 |
发明人 |
田边;韩佰锋;李华峰;王鹏;赵玉龙;蒋庄德 |
分类号 |
G01L1/20(2006.01)I;G01L9/02(2006.01)I |
主分类号 |
G01L1/20(2006.01)I |
代理机构 |
西安智大知识产权代理事务所 61215 |
代理人 |
贺建斌 |
主权项 |
一种具有高过载低加速度干扰的微压力传感器,包括硅质基底(1),其特征在于:硅质基底(1)的背面中部设有空腔,硅质基底(1)的背面与硼玻璃(2)键合,且留有键合余量,硼玻璃(2)的中部设有凸台结构(8),凸台结构(8)下底面中心位置与硼玻璃(2)上底面中心位置重合,硅质基底(1)的背面空腔与硼玻璃(2)的凸台结构(8)相配合,并预留有工作间隙,在硅质基底(1)的正面腐蚀形成相互垂直的第一梁(6)和第二梁(7),在硅质基底(1)的背面腐蚀形成平膜(9),第一梁(6)和第二梁(7)与硅质基底(1)四周的梁共同形成梁膜结构。 |
地址 |
710049 陕西省西安市咸宁路28号 |