发明名称 |
内部气相沉积工艺 |
摘要 |
本发明涉及内部气相沉积工艺。本发明涉及光纤用初级预制品的制造方法,其使用内部气相沉积工艺,所述方法包括以下步骤:i)设置具有供给侧和排出侧的中空玻璃基管,ii)由加热炉包围至少部分所述中空玻璃基管,iii)将玻璃形成气体的掺杂或未掺杂的气体流经由中空玻璃基管的供给侧供给至中空玻璃基管的内部,iv)创建其中条件为使得玻璃的沉积发生在所述中空玻璃管的内部的反应区,和v)在所述中空玻璃基管的位于供给侧附近的换向点和位于排出侧附近的换向点之间沿中空玻璃基管的纵向往复移动反应区。 |
申请公布号 |
CN102219372B |
申请公布日期 |
2015.03.25 |
申请号 |
CN201110092930.0 |
申请日期 |
2011.04.13 |
申请人 |
德拉克通信科技公司 |
发明人 |
I·米莉瑟维克;M·J·N·范·斯特劳伦;J·A·哈特苏克;E·阿尔迪;E·A·库伊佩斯 |
分类号 |
C03B37/018(2006.01)I;C03B37/025(2006.01)I |
主分类号 |
C03B37/018(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;李茂家 |
主权项 |
一种光纤用初级预制品的制造方法,其使用内部气相沉积工艺,所述方法包括以下步骤:i)设置具有供给侧和排出侧的中空玻璃基管,ii)由加热炉包围至少部分所述中空玻璃基管,iii)将玻璃形成气体的掺杂或未掺杂的气体流经由所述中空玻璃基管的供给侧供给至所述中空玻璃基管的内部,iv)创建其中条件为使得玻璃的沉积发生在所述中空玻璃管的内部的反应区,和v)在所述中空玻璃基管的位于所述供给侧附近的换向点和位于所述排出侧附近的换向点之间,沿所述中空玻璃基管的纵向往复移动反应区,其特征在于:在至少部分步骤v)的期间,当所述反应区位于换向点附近或在换向点处时,将额外量的包括含氟化合物的气体经由所述中空玻璃基管的供给侧供给至所述中空玻璃基管的内部,其中将所述额外量的气体以单或多脉冲的形式供给,其中采用脉冲时间为10‑500ms。 |
地址 |
荷兰阿姆斯特丹 |