| 摘要 |
<p>Procédé de traitement d'une chambre à parois réfractaires, comportant une projection dans ladite chambre, en présence d'oxygène, d'une composition de traitement comprenant au moins un composé organique de silicium et au moins un hydrocarbure, et une élévation de température de ladite composition de traitement projetée, la projection en présence d'oxygène ayant lieu dans la chambre fermée où la composition de traitement, dans un état majoritairement liquide, est pulvérisée sous la forme de particules en suspension, le procédé comprenant en outre une décomposition dudit au moins un composé organique de silicium avec formation d'un aérosol de silice colloïdale dans la chambre fermée et établissement d'une surpression dans celle-ci et un étalement d'une couche de silice colloïdale sur les parois réfractaires avec, à la suite de ladite surpression, pénétration de la silice colloïdale dans les microfissures.</p> |
