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发明名称
酸化膜成膜方法および酸化膜成膜装置
摘要
<p>本発明は、大気の変動の影響を受けず常に酸化膜を正常に成膜でき、金属酸化膜にあっては低抵抗な膜が成膜でき、かつ成膜効率の良い、酸化膜成膜方法を提供する。そして、本発明では、大気中において、基板(100)に対して、アルキル化合物を含む原料溶液をミスト状にして噴出させる。さらに、アルキル化合物に対して酸化作用を有する酸化剤を、ミスト状の原料溶液に対して、供給する。以上の処理により、本発明では、基板上に酸化膜を成膜する。</p>
申请公布号
JPWO2013038484(A1)
申请公布日期
2015.03.23
申请号
JP20130533367
申请日期
2011.09.13
申请人
東芝三菱電機産業システム株式会社
发明人
織田 容征;白幡 孝洋;平松 孝浩
分类号
C01B13/34;C01B13/14
主分类号
C01B13/34
代理机构
代理人
主权项
地址
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