发明名称 光電変換装置およびその製造方法
摘要 <p>第1電極、第1光電変換層、第2電極がこの順で積層されてなる光電変換装置であって、第1光電変換層は、第1電極側から第2電極側に向けて順に積層されている、p型シリコン系半導体層と、微結晶シリコン系半導体からなるi型シリコン系半導体層と、リンおよび酸素を含むn型シリコン系半導体層と、を有し、n型シリコン系半導体層は、リン濃度が最大である第1部位と層厚方向の位置が同じ位置または前記i型シリコン系半導体層により近い位置に酸素濃度が極大となる第2部位を有する。</p>
申请公布号 JPWO2013031906(A1) 申请公布日期 2015.03.23
申请号 JP20130531403 申请日期 2012.08.30
申请人 发明人
分类号 H01L31/06 主分类号 H01L31/06
代理机构 代理人
主权项
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