发明名称 ガスバリア性フィルムおよびその製造方法、ならびにこれを用いた電子素子用基板
摘要 本発明のガスバリア性フィルムは、セルロースナノファイバーの水酸基の水素原子の少なくとも一部が炭素数1〜8のアシル基で置換された、表面修飾セルロースナノファイバーを含有し、マトリックス樹脂の含有量が前記セルロースナノファイバーと前記マトリックス樹脂との合計量に対して10質量%以下であるシート状基材と、前記シート状基材の少なくとも片面に形成されたガスバリア層と、を有する。また、本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、セルロースナノファイバーの水酸基の水素原子の少なくとも一部を炭素数1〜8のアシル基で置換して表面修飾セルロースナノファイバーを得、前記表面修飾セルロースナノファイバーを溶融押出法または溶液キャスト法で製膜してシート状基材を得る工程Aと、前記シート状基材上にガスバリア層を形成する工程Bと、を有する。
申请公布号 JPWO2013031687(A1) 申请公布日期 2015.03.23
申请号 JP20130531282 申请日期 2012.08.24
申请人 コニカミノルタ株式会社 发明人 河野 純一;江連 秀敏
分类号 B32B27/20;B32B27/00;G02F1/1333 主分类号 B32B27/20
代理机构 代理人
主权项
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