基板液处理装置及其方法、程式以及记录媒体

主权项

一种基板液处理装置，具备：基板处理室，其系藉由处理液逐片式地对基板进行处理；贮槽，其被配设于与上述基板处理室连接之处理液之管线内，用以储存处理液；液面位准感测器，其被配设于前述贮槽内；液废弃部，其系用以废弃上述贮槽内之处理液；液补充部，其系对前述贮槽内补充新处理液；以及液交换控制部，其系根据以每次交换的在上述基板处理室被处理之基板的片数，或是每次交换的处理液之使用时间而被决定之液废弃条件来控制上述液废弃部，并且根据上述液面位准感测器之输出来控制前述液补充部，上述液交换控制部系(i)当上述贮槽内之处理液之液面低于液面位准感测器之检测位准时，控制上述液补充部而开始进行液补充，另外当上述贮槽内之处理液之液面高于液面位准感测器之检测位准时，控制上述液补充部而结束进行液补充，(ii)当根据上述液废弃条件，和与上述贮槽之实质容量对应之基板的片数或处理液之使用时间之差而被设定的补充停止条件被满足时，持续进行在上述基板处理室中的基板处理，同时控制上述液补充部而停止进行液补充直到之后的液交换被执行，(iii)当上述液废弃条件被满足时，控制上述液废弃部
而废弃上述贮槽内之处理液。