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经营范围
发明名称
流体处置结构,微影装置及元件制造方法
摘要
申请公布号
TWI477926
申请公布日期
2015.03.21
申请号
TW101136260
申请日期
2012.10.01
申请人
ASML荷兰公司
发明人
瑞潘 米歇尔
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
林嘉兴 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
一种用于一微影装置之流体处置结构,该流体处置结构用以将液体限制至一空间,该流体处置结构在环绕该空间之一下表面上具有一液体供应开口以将一液体供应至该流体处置结构之一下表面上,且相对于该液体供应开口之该空间径向地向内具有一个二维液体萃取(extract)开口阵列以自该空间萃取一液体且自该液体供应开口萃取该下表面上之液体,其中该流体处置结构进一步包含一气体供应开口,该气体供应开口系自该液体供应开口径向地向外。
地址
荷兰
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