| 发明名称 | 基板处理装置、基板处理方法及记录有程式之记忆媒体 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI478273 | 申请公布日期 | 2015.03.21 |
| 申请号 | TW100115603 | 申请日期 | 2011.05.04 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 天野嘉文 |
| 分类号 | H01L21/68 | 主分类号 | H01L21/68 |
| 代理机构 | 代理人 | 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 | |
| 主权项 | 一种基板处理装置，包含：基板处理部，对被处理基板供给处理流体以进行基板处理；定位机构部，接触该被处理基板侧面，决定该被处理基板之位置；定位驱动部，驱动该定位机构部；侦测部，侦测该定位机构部之位置；记忆部，用以将该定位机构部相对于成为该被处理基板之基准的基准基板之位置，作为基准位置资讯而加以记忆；或运算部，计算该基准位置资讯与藉由该侦测部所侦测之该定位机构部的位置资讯之差值，自该差值计算作为该被处理基板之直径之资讯之实测资讯。 | ||
| 地址 | 日本 | ||