发明名称 |
光阻底层膜形成组成物用添加剂及含其之光阻底层膜形成用组成物 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI477917 |
申请公布日期 |
2015.03.21 |
申请号 |
TW098145087 |
申请日期 |
2009.12.25 |
申请人 |
日产化学工业股份有限公司 |
发明人 |
坂本力丸;广井佳臣;何邦庆 |
分类号 |
G03F7/11;C08F212/14;C08F220/10;G03F7/40;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/11 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
一种光阻底层膜形成组成物用添加剂,其特征为含有至少具有下述式(1)所表示之构造单位V及W,前述式(1)中之前述构造单位V为以下述式(2)所表示者,式(1):
(式中,L表示构成聚合物之主链之一部份的键结基;M表示含有-C(=O)-及-O-的连结基;Q表示氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、三氟乙基及三氟丙基,R1为乙醯基、烷氧基烷基或3级烷基);式(2):(式中,R2表示氢原子或甲基,M及Q系与式(1)中之定义同义)。 |
地址 |
日本 |