| 发明名称 | 表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种对表面有凹凸的光学用膜也可使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用其的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)而成，抗静电剂成分是熔点小于30℃的离子性化合物，通过抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下粘结剂层(2)时的剥离静电压。 | ||
| 申请公布号 | CN104419338A | 申请公布日期 | 2015.03.18 |
| 申请号 | CN201410312177.5 | 申请日期 | 2014.07.02 |
| 申请人 | 藤森工业株式会社 | 发明人 | 小林弘幸;春日充;远藤佳子;林益史 |
| 分类号 | C09J7/02(2006.01)I;G02B1/10(2015.01)I | 主分类号 | C09J7/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 崔香丹;洪燕 |
| 主权项 | 一种表面保护膜，在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面形成有粘结剂层，并在所述粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜，其中，所述剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，所述剥离剂层含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，所述抗静电剂的成分是熔点小于30℃的离子性化合物，所述抗静电剂成分从所述剥离膜向所述粘结剂层的表面转移，从而减少从被粘附体剥下所述粘结剂层时的剥离静电压。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||