取代的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺化合物及其作为除草剂的用途

摘要

式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。本发明涉及式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。在所述式(I)中，B表示N或CH，而R、R¹、R²、R³、R⁴和R⁵表示诸如氢、卤素或有机基团如烷基或苯基的基团。

主权项

式I的N‑(四唑‑5‑基)‑和N‑(三唑‑5‑基)芳基羧酰胺、其N‑氧化物或可农用盐：其中B为N或CH；R选自氢、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中两个前述基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷氧基‑C₁‑C₄烷基、R^b‑S(O)_n‑C₁‑C₃烷基、R^c‑C(＝O)‑C₁‑C₃烷基、R^dO‑C(＝O)‑C₁‑C₃烷基、R^eR^fN‑C(＝O)‑C₁‑C₃烷基、R^gR^hN‑C₁‑C₃烷基、苯基‑Z和杂环基‑Z，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R'取代；R¹选自氰基‑Z¹、卤素、硝基、C₁‑C₈烷基、C₂‑C₈链烯基、C₂‑C₈炔基、C₁‑C₈卤代烷基、C₁‑C₈烷氧基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基‑Z¹、C₁‑C₄烷硫基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄烷硫基‑C₁‑C₄烷硫基‑Z¹、C₂‑C₆链烯氧基、C₂‑C₆炔氧基、C₁‑C₆卤代烷氧基、C₁‑C₄卤代烷氧基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基‑Z¹、R^1b‑S(O)_k‑Z¹、苯氧基‑Z¹和杂环氧基‑Z¹，其中杂环氧基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的氧键合的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯氧基和杂环氧基中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R¹¹取代；R²、R³相同或不同且独立地选自氢、卤素、OH‑Z²、NO₂‑Z²、氰基‑Z²、C₁‑C₆烷基、C₂‑C₈链烯基、C₂‑C₈炔基、C₃‑C₁₀环烷基‑Z²、C₃‑C₁₀环烷氧基‑Z²，其中两个前述基团中的C₃‑C₁₀环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C₁‑C₈卤代烷基、C₁‑C₈烷氧基‑Z²、C₁‑C₈卤代烷氧基‑Z²、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基‑Z²、C₁‑C₄烷硫基‑C₁‑C₄烷硫基‑Z²、C₂‑C₈链烯氧基‑Z²、C₂‑C₈炔氧基‑Z²、C₂‑C₈卤代链烯氧基‑Z²、C₂‑C₈卤代炔氧基‑Z²、C₁‑C₄卤代烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基‑Z²、(三‑C₁‑C₄烷基)甲硅烷基‑Z²、R^2b‑S(O)_k‑Z²、R²c‑C(＝O)‑Z²、R^2dO‑C(＝O)‑Z²、R^2eR^2fN‑C(＝O)‑Z²、R^2gR^2hN‑Z²、苯基‑Z^2a和杂环基‑Z^2a，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基‑Z^2a和杂环基‑Z^2a中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R²¹取代；R⁴选自氢、卤素、氰基、硝基、C₁‑C₄烷基和C₁‑C₄卤代烷基；R⁵选自氢、卤素、C₁‑C₄烷基和C₁‑C₄卤代烷基；条件是基团R⁴和R⁵中至少一个不为氢；n为0、1或2；k为0、1或2；R'、R¹¹、R²¹相互独立地选自卤素、NO₂、CN、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇卤代环烷基、C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₆烷氧基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄烷硫基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷氧基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基、C₃‑C₇环烷氧基和C₁‑C₆卤代烷氧基，或者两个连位基团R'、R¹¹或R²¹一起可以形成基团＝O；Z、Z¹、Z²相互独立地选自共价键和C₁‑C₄链烷二基；Z^2a选自共价键、C₁‑C₄链烷二基、O‑C₁‑C₄链烷二基、C₁‑C₄链烷二基‑O和C₁‑C₄链烷二基‑O‑C₁‑C₄链烷二基；R^b、R^1b、R^2b相互独立地选自C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、苯基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代；R^c、R^2c相互独立地选自氢、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中两个前述基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、苯基、苄基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基、苄基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代；R^d、R^2d相互独立地选自C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中两个前述基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代；R^e、R^f相互独立地选自氢、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中两个前述基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代，或者R^e、R^f与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自O、S和N的另一杂原子作为环成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团的5、6或7员饱和或不饱和N‑键合杂环基团；R^2e、R^2f相互独立地具有对R^e、R^f所给含义；R^g选自氢、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中两个前述基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代；R^h选自氢、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中两个前述基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、基团C(＝O)‑R^k、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代，或者R^g、R^h与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自O、S和N的另一杂原子作为环成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自＝O、卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团的5、6或7员饱和或不饱和N‑键合杂环基团；R^2g、R^2h相互独立地具有对R^g、R^h所给含义；R^k具有对R^c所给含义。