光掩模及其制造方法、图案转印方法和显示装置制造方法

摘要

光掩模及其制造方法、图案转印方法和显示装置制造方法，提高细微图案的转印性。显示装置制造用光掩模通过如下方式形成，在透明基板上，利用湿式蚀刻分别对相位偏移膜、蚀刻掩模膜和遮光膜进行图案化，形成包含遮光部、相位偏移部和透光部的转印用图案，其中，遮光部是依次层叠相位偏移膜、蚀刻掩模膜和遮光膜而成的，相位偏移部是相位偏移膜，或者依次层叠相位偏移膜和蚀刻掩模膜而成的，透光部是使透明基板表面露出而成的，相位偏移膜由含有铬的材料构成，蚀刻掩模膜由对相位偏移膜的蚀刻液具有耐蚀刻性的材料构成，相位偏移部与透光部具有彼此邻接的部分，而且，相位偏移部与透光部相对于光掩模的曝光光的代表波长具有大致180度的相位差。

主权项

一种显示装置制造用光掩模，其通过如下方式形成：在透明基板上，利用湿式蚀刻分别对相位偏移膜、蚀刻掩模膜和遮光膜进行图案化，由此形成包含遮光部、相位偏移部和透光部的转印用图案，其中，所述遮光部是在所述透明基板上依次层叠所述相位偏移膜、所述蚀刻掩模膜和所述遮光膜而成的，所述相位偏移部是在所述透明基板上形成所述相位偏移膜，或者形成所述相位偏移膜和所述蚀刻掩模膜而成的，所述透光部是使所述透明基板的表面露出而成的，所述相位偏移膜由含有铬的材料构成，所述蚀刻掩模膜由对所述相位偏移膜的蚀刻液具有耐蚀刻性的材料构成，所述相位偏移部与所述透光部具有彼此邻接的部分，而且，所述相位偏移部与所述透光部对于所述光掩模的曝光光的代表波长具有大致180度的相位差。