发明名称 |
用于产生等离子体射流的方法和设备 |
摘要 |
本发明涉及用于在大气压力下产生用于工件(18)的表面处理的等离子体射流(2)的一种方法和设备(1),所述设备(1)具有用于能够产生等离子体的介质(5)的供应线路(8)、用于借助电弧(22)来电激发所述能够产生等离子体的介质(5)的装置(3),所述电弧(22)在阴极(19)和被构造成喷嘴(21)的阳极(20)之间被周期性地点燃。为了即使在等离子体射流(2)的相对较低的温度也能够获得高效率的等离子体射流(2),在用于电激发所述能够产生等离子体的介质(5)的所述装置(3)的上游布置用于预热所述能够产生等离子体的介质(5)的加热装置(23)。 |
申请公布号 |
CN104427735A |
申请公布日期 |
2015.03.18 |
申请号 |
CN201410426246.5 |
申请日期 |
2014.08.26 |
申请人 |
弗罗纽斯国际有限公司 |
发明人 |
托马斯·斯特尔埃尔;罗伯特·尼默福尔;弗洛里安·西尔伯迈尔;丹尼尔·普拉策 |
分类号 |
H05H1/32(2006.01)I |
主分类号 |
H05H1/32(2006.01)I |
代理机构 |
北京金思港知识产权代理有限公司 11349 |
代理人 |
邵毓琴 |
主权项 |
一种用于在大气压力下产生用于工件(18)的表面处理的等离子体射流(2)的方法,其中,所述等离子体射流(2)通过借助电弧(22)电激发能够产生等离子体的介质(5)来产生,所述电弧(22)在阴极(19)和被构造成喷嘴(21)的阳极(20)之间被周期性地点燃,并且所述等离子体射流(2)通过所述喷嘴(21)引导向待处理的表面的方向,其特征在于,在借助所述电弧(22)进行所述电激发之前在加热装置(23)中预热所述能够产生等离子体的介质(5)。 |
地址 |
奥地利佩滕巴赫 |