| 发明名称 | 遮光图案的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种遮光图案的制造方法，其包括以下步骤。提供基板。基板具有透光区以及位于透光区的周边的遮光区。于透光区上形成保护层。于遮光区上形成遮光材料层。移除保护层，以形成遮光图案。 | ||
| 申请公布号 | CN104422975A | 申请公布日期 | 2015.03.18 |
| 申请号 | CN201310370893.4 | 申请日期 | 2013.08.22 |
| 申请人 | 明兴光电股份有限公司 | 发明人 | 王威捷;蔡益明;林圣贤 |
| 分类号 | G02B5/00(2006.01)I;G02B1/14(2015.01)I | 主分类号 | G02B5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 李昕巍;赵根喜 |
| 主权项 | 一种遮光图案的制造方法，其特征在于，包括：提供基板，所述基板具有透光区以及位于所述透光区的周边的遮光区；于所述透光区上形成保护层；于所述遮光区上形成遮光材料层；以及移除所述保护层，以形成所述遮光图案。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段669号3楼 | ||