溅射靶材及其制作方法

摘要

本发明提供一种溅射靶材及其制作方法，所述溅射靶材包括：靶材组件，具有溅射面以及围绕所述溅射面的密封面；密封槽，开设于所述靶材组件密封面上，用于容纳密封部件；多于4个的排气槽，开设在所述靶材组件的密封面上，所述排气槽与所述密封槽相连通，用于将所述密封槽内的气体排出。所述制作方法包括：提供靶材组件，并在靶材组件上加工溅射面以及围绕所述溅射面的密封面；在靶材组件的所述密封面上开设密封槽，所述密封槽用于安置使所述靶材组件密封于沉积室中的密封部件；在靶材组件的密封面上开设多于4个排气槽，使所述排气槽与密封槽相互连通。本发明的优点在于提供足够的排气面积以排出所述密封槽内的截留气体，避免异常放电现象发生。

主权项

一种溅射靶材，用于密封于沉积室中，其特征在于，所述溅射靶材包括：靶材组件，具有溅射面以及围绕所述溅射面的密封面；密封槽，开设于所述靶材组件密封面上，用于容纳密封部件；多于4个的排气槽，开设在所述靶材组件的密封面上，所述排气槽与所述密封槽相连通，用于将所述密封槽内的气体排出。