修正装置

摘要

本发明公开一种修正装置，其对于试样的损伤较小，在长时间内稳定且效率良好地进行掩膜等的细微部位的修正。修正装置(10)至少具备：气体电场电离离子源，其具有锐化的针尖；冷却单元，其冷却针尖；离子束镜筒(11)，其使在气体电场电离离子源产生的气体的离子集束，形成集束离子束；试样工作台(15)，其设置经通过离子束镜筒(11)形成的集束离子束照射的试样，并能够移动；试样室(13)，其内置试样工作台(15)；以及控制部(20)，其通过集束离子束修正作为试样的掩膜(14)或纳米压印光刻的模具。气体电场电离离子源以氮作为离子，并具备通过铱单晶构成的针尖，该铱单晶具有能够产生离子的单一的顶点。

主权项

一种修正装置，其特征在于，至少具备：气体电场电离离子源，其具备离子产生部，该离子产生部具有锐化的针尖；冷却单元，其冷却所述针尖；离子束镜筒，其使在所述气体电场电离离子源中产生的气体的离子集束，形成集束离子束；试样工作台，其设置要被照射所述离子束镜筒所形成的所述集束离子束的试样并能够移动；试样室，其至少内置所述试样工作台；以及控制单元，其通过由所述离子束镜筒形成的所述集束离子束修正作为所述试样的掩模或纳米压印光刻的模具，所述气体电场电离离子源以氮作为所述离子，并具备由能够产生所述离子的铱单晶构成的所述针尖。