光掩模的制造方法、检查方法和检查装置、以及描绘装置

摘要

本发明提供光掩模的制造方法、检查方法和检查装置、以及描绘装置，能够提高形成在被转印体上的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有以下工序：准备图案设计数据(A)；获得表示由于将光掩模保持到曝光装置而引起的主表面的变形量、且是除了自重挠曲成分以外的变形量的转印面修正数据(D)；获得表示在将光掩模坯体载置到了描绘装置的工作台上的状态下的、主表面的高度分布的描绘时高度分布数据(E)；通过描绘时高度分布数据(E)与转印面修正数据(D)的差分获得描绘差分数据(F)；计算与描绘差分数据(F)对应的坐标偏差量，求出描绘用坐标偏差量数据(G)；以及采用描绘用坐标偏差量数据(G)和图案设计数据(A)，在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。

主权项

一种光掩模的制造方法，包含如下工序：准备在基板的主表面上形成有薄膜和光抗蚀剂膜的光掩模坯体，并通过描绘装置描绘规定的转印用图案，其中，所述光掩模的制造方法具有：根据所述规定的转印用图案的设计，准备图案设计数据(A)的工序；获得转印面修正数据(D)的工序，该转印面修正数据(D)表示由于将所述光掩模保持到曝光装置而引起的所述主表面的变形量、且是除了自重挠曲成分以外的所述主表面的变形量；获得描绘时高度分布数据(E)的工序，该描绘时高度分布数据(E)表示以所述主表面处于上侧的方式将所述光掩模坯体载置到了所述描绘装置的工作台上的状态下的、所述主表面的高度分布；通过所述描绘时高度分布数据(E)与所述转印面修正数据(D)的差分获得描绘差分数据(F)的工序；计算与所述描绘差分数据(F)对应的、所述主表面上的多个点处的坐标偏差量，从而求出描绘用坐标偏差量数据(G)的工序；以及描绘工序，使用所述描绘用坐标偏差量数据(G)和所述图案设计数据(A)，在所述光掩模坯体上进行描绘。