发明名称 |
在中间层中具有交联二烷基硅氧烷的气体分离膜及其制备 |
摘要 |
一种用于制备复合膜的工艺,该工艺包括以下步骤:a)将可辐射固化组合物施加于多孔支撑件;b)照射组合物,并由此在支撑件上形成厚度为20nm至400nm的固化聚合物层;c)在固化聚合物层上形成识别层;以及d)可选地在识别层上形成保护层;其中,可辐射固化组合物包括部分交联的可辐射固化聚合物,部分交联的可辐射固化聚合物包括二烷基硅氧烷基团。还要求保护复合膜。 |
申请公布号 |
CN104428050A |
申请公布日期 |
2015.03.18 |
申请号 |
CN201380034428.1 |
申请日期 |
2013.06.26 |
申请人 |
富士胶片制造欧洲有限公司 |
发明人 |
彼得勒斯·范·凯塞尔;马尔滕·梅杰林克;埃里克·维梅尔 |
分类号 |
B01D53/22(2006.01)I;B01D71/70(2006.01)I;B01D69/10(2006.01)I |
主分类号 |
B01D53/22(2006.01)I |
代理机构 |
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 |
代理人 |
章社杲;李伟 |
主权项 |
一种用于制备复合膜的工艺,所述工艺包括以下步骤:a)将可辐射固化组合物施加于多孔支撑件;b)照射所述组合物,并由此在所述支撑件上形成厚度为20nm至400nm的固化聚合物层;c)在所述固化聚合物层上形成识别层;以及d)可选地在所述识别层上形成保护层;其中,所述可辐射固化组合物包括部分交联的可辐射固化聚合物,所述部分交联的可辐射固化聚合物包括二烷基硅氧烷基团。 |
地址 |
荷兰提耳堡 |