| 发明名称 | 基板处理方法和基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供能够提高生产率的基板处理方法和基板处理装置。一技术方案的基板处理方法包括以下工序：处理液供给工序，在该处理液供给工序中，对进行了在处理后需要气氛管理或时间管理的前处理的基板供给含有挥发成分的、用于在基板上形成膜的处理液；以及收纳工序，在该收纳工序中，将因上述挥发成分挥发而使上述处理液固化或硬化后的基板收纳于输送容器。 | ||
| 申请公布号 | CN104425318A | 申请公布日期 | 2015.03.18 |
| 申请号 | CN201410431101.4 | 申请日期 | 2014.08.27 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 金子都;折居武彦;菅野至 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种基板处理方法，其特征在于，该基板处理方法包括以下工序：处理液供给工序，在该处理液供给工序中，在对进行了在处理后需要气氛管理或时间管理的前处理的基板供给含有挥发成分的、用于在基板上形成膜的处理液；以及收纳工序，在该收纳工序中，将因上述挥发成分挥发而使上述处理液固化或硬化后的基板收纳于输送容器。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||