| 发明名称 | 基板处理方法以及基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及基板处理方法以及基板处理装置。该基板处理方法包括：液膜保持工序，用于将处理液的液膜保持在基板的主面上，加热器加热工序，与所述液膜保持工序并行地进行，通过与所述基板的主面相向配置的加热器对处理液的所述液膜加热；所述加热器加热工序，在其执行过程中，使该加热器的功率从之前的功率发生变更。 | ||
| 申请公布号 | CN104425325A | 申请公布日期 | 2015.03.18 |
| 申请号 | CN201410458220.9 | 申请日期 | 2014.09.10 |
| 申请人 | 斯克林集团公司 | 发明人 | 根来世;永井泰彦;岩田敬次 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 金相允;向勇 |
| 主权项 | 一种基板处理方法，其特征在于，包括：液膜保持工序，用于将处理液的液膜保持在基板的主面上，加热器加热工序，与所述液膜保持工序并行地进行，通过与所述基板的主面相向配置的加热器对处理液的所述液膜进行加热；在所述加热器加热工序的执行过程中，使该加热器的功率从之前的功率发生变更。 | ||
| 地址 | 日本国京都府京都市 | ||