发明名称 |
微透镜的制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种微透镜的制造方法,其是在形成于基板上的透镜材料层上,在不经由熔融工序的情况下,形成具有图案形状的掩模层,与所述透镜材料层一起进行干式蚀刻,将所述掩模层的图案形状转印到所述透镜材料层上而形成微透镜。由于通过不经由利用作为掩模材料的光致抗蚀剂的热流的熔融工序,变得不需要用于利用熔融工序的透镜形状化的图案间间隙,所以能够缩小掩模图案间间隙,排除线宽不均。此外,由于不产生伴随熔融工序的图案间熔接,所以能够扩大掩模图案形成的工艺窗口。进而,间距方向和对角方向的蚀刻特性(沉积物的生成与蚀刻进行的平衡)得到改善,使无间隙化提高,能够缩短蚀刻时间。 |
申请公布号 |
CN104428714A |
申请公布日期 |
2015.03.18 |
申请号 |
CN201380034746.8 |
申请日期 |
2013.07.02 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
吉林光司 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I;H01L27/14(2006.01)I;H04N5/369(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
葛凡 |
主权项 |
一种微透镜的制造方法,其是在形成于基板上的透镜材料层上,在不经由熔融工序的情况下,形成具有图案形状的掩模层,与所述透镜材料层一起进行干式蚀刻,将所述掩模层的图案形状转印到所述透镜材料层而形成微透镜。 |
地址 |
日本国东京都 |