发明名称 |
半导体装置以及半导体装置的制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种半导体装置(10)的制造方法,包括将具有开口(42)的掩模(20)置于基板(18)的上表面的外部区域(24)上,以将所述掩模的所述开口的端部(44)正好定位在形成于所述基板的所述上表面上的凹部(20)的上方,所述外部区域位于所述凹部的外侧。所述制造方法进一步包括:在将所述掩模置于所述基板上之后,通过所述掩模,在所述基板的所述上表面的一部分上使导电膜(16)生长,所述上表面的所述一部分包含所述凹部;以及在使所述导电膜生长之后,将所述掩模从所述基板移除。 |
申请公布号 |
CN104425296A |
申请公布日期 |
2015.03.18 |
申请号 |
CN201410439886.X |
申请日期 |
2014.09.01 |
申请人 |
丰田自动车株式会社 |
发明人 |
牛岛隆志;今井敦志;野原二郎 |
分类号 |
H01L21/60(2006.01)I;H01L23/488(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/60(2006.01)I |
代理机构 |
北京金信知识产权代理有限公司 11225 |
代理人 |
黄威;董领逊 |
主权项 |
半导体装置(10)的制造方法,其特征在于包括:将具有开口(42)的掩模(40)置于基板(18)的上表面的外部区域(24)上,以将所述掩模的所述开口的端部(44)正好定位在形成于所述基板的所述上表面上的凹部的上方,所述外部区域位于所述凹部的外侧;在将所述掩模置于所述基板上之后,通过所述掩模,在所述基板的所述上表面的一部分上使导电膜(16)生长,所述上表面的所述一部分包含所述凹部;以及在使所述导电膜生长之后,将所述掩模从所述基板移除。 |
地址 |
日本爱知县 |