发明名称 半导体装置以及半导体装置的制造方法
摘要 本发明提供了一种半导体装置(10)的制造方法,包括将具有开口(42)的掩模(20)置于基板(18)的上表面的外部区域(24)上,以将所述掩模的所述开口的端部(44)正好定位在形成于所述基板的所述上表面上的凹部(20)的上方,所述外部区域位于所述凹部的外侧。所述制造方法进一步包括:在将所述掩模置于所述基板上之后,通过所述掩模,在所述基板的所述上表面的一部分上使导电膜(16)生长,所述上表面的所述一部分包含所述凹部;以及在使所述导电膜生长之后,将所述掩模从所述基板移除。
申请公布号 CN104425296A 申请公布日期 2015.03.18
申请号 CN201410439886.X 申请日期 2014.09.01
申请人 丰田自动车株式会社 发明人 牛岛隆志;今井敦志;野原二郎
分类号 H01L21/60(2006.01)I;H01L23/488(2006.01)I 主分类号 H01L21/60(2006.01)I
代理机构 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人 黄威;董领逊
主权项 半导体装置(10)的制造方法,其特征在于包括:将具有开口(42)的掩模(40)置于基板(18)的上表面的外部区域(24)上,以将所述掩模的所述开口的端部(44)正好定位在形成于所述基板的所述上表面上的凹部的上方,所述外部区域位于所述凹部的外侧;在将所述掩模置于所述基板上之后,通过所述掩模,在所述基板的所述上表面的一部分上使导电膜(16)生长,所述上表面的所述一部分包含所述凹部;以及在使所述导电膜生长之后,将所述掩模从所述基板移除。
地址 日本爱知县