发明名称 图案形成方法和磁记录介质的制造方法
摘要 在磁记录介质形成面内均匀性良好的周期性图案。根据实施方式,在磁记录层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液,形成单层的微粒子层,所述微粒子被保护层被覆,且至少在表面具有选自Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W及其氧化物中的材料,所述保护层包含第1添加剂和第2添加剂的混合物,所述第1添加剂具有用于提高对磁记录层的润湿性的直链结构以及羧基等,所述第2添加剂具有羧基等以及聚合性官能团,应用热能或者光能,使聚合性官能团反应而使保护层固化,并且固着于磁记录层上,形成周期性图案。
申请公布号 CN104424964A 申请公布日期 2015.03.18
申请号 CN201410033231.2 申请日期 2014.01.24
申请人 株式会社 东芝 发明人 木村香里;泷泽和孝;藤本明
分类号 G11B5/84(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 主分类号 G11B5/84(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 段承恩;杨光军
主权项 一种磁记录介质的制造方法,其特征在于,具备:在基板上形成磁记录层的工序;在该磁记录层上形成掩模层的工序;在所述掩模层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液,在所述掩模层上形成单层的微粒子层的工序,所述微粒子被保护层被覆,且至少在表面具有选自铝、硅、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、锌、钇、锆、锡、钼、钽和钨、以及其氧化物中的材料,所述保护层包含第1添加剂与第2添加剂的混合物,所述第1添加剂具有用于提高对所述掩模层的润湿性的直链结构、以及选自氨基、羧基、羟基和磺基中的至少1种的第1官能团,所述第2添加剂具有选自氨基、羧基、羟基和磺基中的至少1种的第2官能团以及聚合性官能团;对该微粒子层应用热能或者光能,使该聚合性官能团反应而使该保护层固化,并且固着于所述掩模层上的工序;将包含该微粒子层的周期性图案向所述掩模层转印的工序;将所述周期性图案向所述磁记录层转印的工序;以及从所述磁记录层除去所述掩模层的工序。
地址 日本东京都